Máscara para ataque eletrolítico em Campo

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Descrição

Máscara para ataque eletrolítico em Campo

Máscara para ataque metalográfico pelo método eletrolítico. Utilizado em posições planas e com inclinações até 30 graus em metalografia de campo.

Aplicações comuns desta máscara: Prática A, ASTM A262, entre outras.

Resistente à bases e ácidos de concentração média.

 

Informação adicional

Peso 0,250 kg
Dimensões 10 × 15 × 8 cm

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